低频磁场干扰是由直流电流或交流电流产生，会在周围产生很强磁场，这个强磁场会使控制系统中磁敏感器件失灵，最常见磁敏感设备是彩色CRT显示器。在磁场作用下，显示器屏幕上图象会发生抖动、图象颜色会失真，导致显示质量严重降低，甚至无法使用。低频磁场往往随距离衰减很快，因此在很多场合，将磁敏感器件远离磁场源是一个减小磁场干扰十分有效措施。但当空间限制而无法采取这个措施时，屏蔽是一个十分有效措施。
1.基本原理
根据电磁屏蔽基本原理，低频磁场由于其频率低，趋肤效应很小，吸收损耗很小，并且由于其波阻抗很低，反射损耗也很小，因此单纯靠吸收和反射很难获得需要屏蔽效能。对这种低频磁场，要通过使用高导磁率材料提供磁旁路来实现屏蔽。由于屏蔽材料导磁率很高，因此为磁场提供了一条磁阻很低通路，因此空间磁场会集中在屏蔽材料中，从而使敏感器件免受磁场干扰。
从这个机理上看，显然屏蔽体分流磁场分量越多，则屏蔽效能越高。根据这个原理，我们可以用电路计算方法来计算磁屏蔽效果。用两个并联电阻分别表示屏蔽材料磁阻和空间磁阻，用电路分析方法来计算磁场分流，由此可以计算屏蔽效果。
计算屏蔽效果公式
H I = H 0 Rs / （ Rs R0）
式中：
H I = 屏蔽体内磁场强度
H 0 = 屏蔽体外磁场强度
Rs = 屏蔽体磁阻
R0 = 空气磁阻
磁阻计算公式
磁阻 = S / （m A）
式中：
S = 磁路长度
m = m 0 m r
m r = 屏蔽材料相对磁导率
A = 磁通流过面积
因此圆形管子磁阻为
Rs = p b /（ m 0 m r 2t L）
为了简单，设截面为正方形，
管子内空气磁阻为： 屏蔽效能为：
R0 = 2 b /（ m 0 2b L）
SE = H 0 / H I
对于高导磁率屏蔽材料，Rs < < R0 ，因此，屏蔽效能为：
SE = R0 / Rs = 2 m r t / p b
从公式中可以看出，屏蔽材料导磁率越高、越厚，则屏蔽效能越高。另外，b越小，屏蔽效能越高，这意味着，屏蔽体距离所保护空间越近，则效果越好。
2.基本概念
磁场强度 ( H )： 单位是奥斯特，与磁场源强度和距离有关
磁通密度 ( B )： 单位是高斯，度量穿过每平方厘米磁力线数量，与源方向有关
磁导率 ( m )： 表征材料为磁力线提供通路能力， m = B / H
饱和强度： 在饱和强度下，材料不能再通过多余磁力线
磁阻 ( R )： 表征材料对通过磁通阻碍特性，定义为：R = L / m A，L是磁通路径长度（cm），A截面面积（cm2）
3.屏蔽材料
如前所述，磁屏蔽需要高导磁率材料，满足这种要求材料是铁镍合金，这种材料具有很高磁导率。一种常用合金化学成分如表1所示。这种材料在正确热处理条件下，起始磁导率（直流，磁通密度为40高斯）可达到60，000，最高磁导率可达到400，000。
表1
成分 Ni Mo Mn Si Fe
数量（%） 80 4.2 0.5 0.35 其余
磁导率并不是固定不变，它会随外加磁场、频率等变化。磁导率随频率变化如图2所示。从图中可以看出，不同厚度材料频率特性也不一样，较厚材料磁导率随频率下降更快一些。
磁导率还与外加磁场强度有关，当外加磁场强度较低时，磁导率随外加磁场增加而升高，当外加磁场强度超过一定值时，磁导率急剧下降，这时称材料发生了饱和，典型高导磁率材料磁导率随外加磁场变化。材料一旦发生饱和，就失去了磁屏蔽作用。材料磁导率越高，越容易饱和。因此，在很强磁场中，磁导率很高材料可能并没有良好屏蔽效能。在选材料时，关键一点是选择同时具有适当饱和特性和足够磁导率材料。表2给出了一些常用合金磁特性。
表2
材料 铁磁合金（80%镍） 铁磁合金（48%镍） 硅钢 碳钢
磁导率 8，000 15，000 20，000 22，000
最高 400，000 150，000 5，000 3，000
起始 60，000 12，000 3，000 1，000
4.注意事项
高导磁率材料在机械冲击的条件下会极大地损失磁性，导致屏蔽效能下降。因此，屏蔽体在经过机械加工后，如敲击、焊接、折弯、钻孔等，必须经过热处理以恢复磁性。热处理要在特定条件下进行，一般要在干燥氢气炉中以一定的速率加热到1177° C，保持4个小时，然后以一定的速率降温到室温。由于热处理的条件极其严格，因此最好是委托材料厂家进行屏蔽体的加工，在工件完成后，进行热处理。如果，用户一定要自己加工，记住要按照材料厂家提出的条件对屏蔽体进行热处理，以获得最佳屏蔽效能，最理想的方法是将工件寄到厂家进行热处理。
在对拼接处进行焊接时，要使用屏蔽材料母料做焊接填充料，这样可以保证焊缝处的高导磁率。如果屏蔽效能要求较低，也可以采用点焊或铆接的方式固定，但要注意拼接处的屏蔽材料要有一定的重叠，以保证磁通路上较小磁阻。
当需要屏蔽的磁场很强时，仅用单层屏蔽材料，不是达不到屏蔽要求，就是会发生饱和。这时，一种方法是增加材料的厚度。但更有效的方法是使用组合屏蔽，将一个屏蔽体放在另一个屏蔽体内，它们之间留有气隙。气隙内可以填充任何非导磁率材料做支撑，如铝。组合屏蔽的屏蔽效能比单个屏蔽体高得多，因此组合屏蔽能够将磁场衰减到很低的程度。
