它可从蒸篮和坩锅进行碳蒸发、金属蒸发并且可选溅射附件。
　　可应用一系列成熟技术，包括镀碳及TEM覆形，碳/金属蒸发、低角度Shadowing和通过使用双源蒸发进行顺序涂层，可选的溅射镀膜附件能适用于各种靶材。
　　通过使用微处理控制器，更增强了系统的灵活性，用户很容易附加各种可选件，但是这些“缺省”都是经过优化操作设计，使得全自动和手动操作均可实现最佳操作。
　　独特的抽屉式样品装载系统使用户方便放入各种样品，铰链式顶盖结构很容易达到系统其它区域。

　　涡轮分子泵安装在系统外部，可方便安装及更换，它的前级真空为旋转真空泵。 整个抽气过程为全自动控制，达到高真空后进行蒸发。本仪器为台式，可方便地进行使用控制，使用中的疏忽也不易造成损坏。

　　特点：
　　全自动抽真空系统
　　样品尺寸可达140毫米见方或200毫米直径
　　独特的“anti-stick”碳棒蒸发机构
　　抽屉式样品装载系统
　　可选的蒸镀类型，具有四种蒸发设置
　　约束的或开放的排气控制
　　可选用各种溅射靶材附件适用于一系列金属
　　可选膜厚监测系统

　　优点：
　　容易操作
　　使用灵活
　　可靠的碳蒸发
　　方便的样品装载及卸载
　　灵活的操作，可选择碳及金属蒸发源
　　在排气过程中可防止样品损坏
　　系统灵活性强
　　很容易测量金属或碳沉积膜厚

　　技术规格：
　　仪器尺寸：450mm W x 500mm D x 300mm H
　　工作腔室：硼硅酸盐玻璃，带有铰链式顶盖。250mm Dia x 300mm H（样品可达直径200 mm即8?）
　　安全钟罩：聚碳酸酯，维护时工作腔室很容易移开
　　重量：65Kg
　　碳枪：高度可调，倾斜0-20o ，使用直径6.15mm碳棒
　　涡轮分子泵：100L/Second为标准配置，可选各种尺寸
　　真空计范围：ATM - 1x10-7mbar
　　工作真空达到时间：15分钟内
　　操作真空：10-5 mbar量级（可选液氮冷阱）
　　蒸发源（脉冲或可变控制）：四种模式可选，低电压
　　a.c. V, 5V, 15V,25V @ 25 amps. 7V @100 amps
　　样品台：0-45o可倾斜
　　旋转样品台（可选）：直径60mm，倾斜0-45o，具有
　　15rpm 到 45rpm可变速度控制
　　Services -Argon（对可选溅射附件） - Nominal 4psi.
　　真空泵：No. 2 泵(2m3/Hr)，complete with Vacuum Hose & Oil Mist Filter
　　电源：230V 50/60Hz (包含泵最大电流为8 Amp)；115V 50/60Hz (包含泵最大电流为16 Amp)

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